Influence of purge, time of waiting and TiCl4 dosing time in a low-pressure atomic layer deposition (ALD) reactor on properties of TiO2 layer
| Permalink: | http://skupni.nsk.hr/Record/nsk.NSK01001073535 |
|---|---|
| Matična publikacija: |
Metalurgija (Sisak) 56 (2017), 1/2 ; str. 179-181 |
| Glavni autori: | Walke, Witold (Author), Kaczmarek, M., Staszuk, Marcin, Basiaga, M. |
| Vrsta građe: | Članak |
| Jezik: | eng |
| Predmet: | |
| Online pristup: |
Elektronička verzija članka |
Održavanje sustava u tijeku
Sustav je trenutačno nedostupan zbog održavanja.
Zapisi o posjedovanju i primjercima trenutačno nisu dostupni. Za više informacija kontaktirajte osoblje knjižnice ili pošaljite upit administratoru: